PCB沉金工藝流程簡介預浸
- 發(fā)布時間:2025-05-23 15:57:06
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以下是PCB沉金(ENIG)工藝中預浸(Pre-dip)步驟的詳細說明,作為前處理流程的關鍵環(huán)節(jié)之一:
預浸(Pre-dip)的作用
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保護銅面:
在酸洗和水洗后,銅面處于高度活化狀態(tài),極易氧化。預浸通過覆蓋一層保護性溶液(如稀酸或絡合劑),隔離銅面與空氣接觸,防止氧化。 -
調節(jié)表面pH值:
沉金藥液(如化學鍍鎳液)對pH值敏感,預浸液可將銅面pH調整至與后續(xù)藥液兼容的范圍(通常為弱酸性),避免因pH突變導致鍍液失效。 -
去除殘留雜質:
進一步清除銅面殘留的微量污染物(如金屬離子、有機物),確保沉金反應均勻性。
預浸操作參數(shù)
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藥液成分:
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常用稀硫酸(H?SO?,5-10%)或專用絡合劑(如檸檬酸、EDTA)。
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部分工藝采用與沉金藥液成分匹配的專用預浸液(含穩(wěn)定劑)。
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pH控制:
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通常為pH 2-3,需與后續(xù)化學鍍鎳液的pH(4-6)平緩過渡。
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溫度與時間:
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室溫操作(20-30℃),浸泡時間1-2分鐘。
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對高密度板或盲孔結構,可延長至3分鐘以確??變葷櫇?。
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注意事項
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避免污染:
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預浸液需單獨使用,嚴禁混入其他槽液(如酸洗液或水洗殘留)。
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定期更換預浸液(如每班次或根據(jù)生產量),防止雜質積累。
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時間控制:
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預浸時間過短:銅面保護不足,易氧化;
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預浸時間過長:可能引入酸液殘留,干擾后續(xù)鍍鎳反應。
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水質要求:
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預浸后需用DI水(去離子水)噴淋,電導率≤5 μS/cm,防止雜質污染鍍鎳槽。
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流程銜接:
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預浸后需立即進入化學鍍鎳槽,避免銅面暴露在空氣中(建議間隔<30秒)。
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預浸異常問題與對策
問題現(xiàn)象 | 可能原因 | 解決方案 |
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沉金層局部發(fā)黑 | 預浸液污染(如金屬離子) | 更換預浸液,加強水洗和過濾系統(tǒng) |
鍍鎳層結合力差 | 預浸后銅面氧化(流程中斷) | 優(yōu)化流程銜接,縮短預浸至鍍鎳時間 |
孔內鍍層覆蓋不全 | 預浸液未充分潤濕盲孔/微孔 | 增加預浸時間或添加潤濕劑 |
沉金藥液pH波動 | 預浸液pH與鍍液不匹配 | 調整預浸液pH至工藝要求范圍 |
預浸效果驗證
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目視檢查:
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預浸后銅面應保持均勻粉紅色,無氧化斑點或水漬殘留。
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接觸角測試:
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使用水滴角測試儀,銅面接觸角應≤10°,表明表面清潔且潤濕性良好。
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沉金層附著力測試:
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通過膠帶剝離試驗(如IPC-650標準),確認鍍層無脫落。
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總結
預浸是連接前處理與化學鍍鎳的“橋梁”,其核心在于:
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防氧化:保護銅面活性;
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調pH:確保鍍液穩(wěn)定性;
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去殘留:提升沉金均勻性。
需通過嚴格的過程控制(pH、時間、水質)和定期維護,保障沉金工藝的可靠性。
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