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PCB沉金工藝流程簡介預浸

  • 發(fā)布時間:2025-05-23 15:57:06
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以下是PCB沉金(ENIG)工藝中預浸(Pre-dip)步驟的詳細說明,作為前處理流程的關鍵環(huán)節(jié)之一:


預浸(Pre-dip)的作用

  1. 保護銅面
    在酸洗和水洗后,銅面處于高度活化狀態(tài),極易氧化。預浸通過覆蓋一層保護性溶液(如稀酸或絡合劑),隔離銅面與空氣接觸,防止氧化。

  2. 調節(jié)表面pH值
    沉金藥液(如化學鍍鎳液)對pH值敏感,預浸液可將銅面pH調整至與后續(xù)藥液兼容的范圍(通常為弱酸性),避免因pH突變導致鍍液失效。

  3. 去除殘留雜質
    進一步清除銅面殘留的微量污染物(如金屬離子、有機物),確保沉金反應均勻性。


預浸操作參數(shù)

  • 藥液成分

    • 常用稀硫酸(H?SO?,5-10%)或專用絡合劑(如檸檬酸、EDTA)。

    • 部分工藝采用與沉金藥液成分匹配的專用預浸液(含穩(wěn)定劑)。

  • pH控制

    • 通常為pH 2-3,需與后續(xù)化學鍍鎳液的pH(4-6)平緩過渡。

  • 溫度與時間

    • 室溫操作(20-30℃),浸泡時間1-2分鐘。

    • 對高密度板或盲孔結構,可延長至3分鐘以確??變葷櫇?。


注意事項

  1. 避免污染

    • 預浸液需單獨使用,嚴禁混入其他槽液(如酸洗液或水洗殘留)。

    • 定期更換預浸液(如每班次或根據(jù)生產量),防止雜質積累。

  2. 時間控制

    • 預浸時間過短:銅面保護不足,易氧化;

    • 預浸時間過長:可能引入酸液殘留,干擾后續(xù)鍍鎳反應。

  3. 水質要求

    • 預浸后需用DI水(去離子水)噴淋,電導率≤5 μS/cm,防止雜質污染鍍鎳槽。

  4. 流程銜接

    • 預浸后需立即進入化學鍍鎳槽,避免銅面暴露在空氣中(建議間隔<30秒)。


預浸異常問題與對策

問題現(xiàn)象 可能原因 解決方案
沉金層局部發(fā)黑 預浸液污染(如金屬離子) 更換預浸液,加強水洗和過濾系統(tǒng)
鍍鎳層結合力差 預浸后銅面氧化(流程中斷) 優(yōu)化流程銜接,縮短預浸至鍍鎳時間
孔內鍍層覆蓋不全 預浸液未充分潤濕盲孔/微孔 增加預浸時間或添加潤濕劑
沉金藥液pH波動 預浸液pH與鍍液不匹配 調整預浸液pH至工藝要求范圍

預浸效果驗證

  1. 目視檢查

    • 預浸后銅面應保持均勻粉紅色,無氧化斑點或水漬殘留。

  2. 接觸角測試

    • 使用水滴角測試儀,銅面接觸角應≤10°,表明表面清潔且潤濕性良好。

  3. 沉金層附著力測試

    • 通過膠帶剝離試驗(如IPC-650標準),確認鍍層無脫落。


總結

預浸是連接前處理與化學鍍鎳的“橋梁”,其核心在于:

  • 防氧化:保護銅面活性;

  • 調pH:確保鍍液穩(wěn)定性;

  • 去殘留:提升沉金均勻性。
    需通過嚴格的過程控制(pH、時間、水質)和定期維護,保障沉金工藝的可靠性。

THE END
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